等离子抛光预抛功能的运用：等离子抛光预抛主要是针对大件产品抛光设计的，小件产品无需使用预抛功能，大件产品在抛光时没有办法一下子让产品温度提升跟抛光液温度一样，会出现产品带电下去的几秒钟、电流会比平时抛光时大许多、会造成设备过流保护，有了预抛功能、就是一次产品下降到抛光液里面是不带电的、只是让产品携带一些温度、二次下降才开始带电抛光、这样温度均衡、冲击减小、才不会出现过流保护。

等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，电浆抛光厂，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。

等离子也称为物质的第四态，东城电浆抛光，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。

等离子抛光工件表面粗糙度达0.015！！！

表面粗糙度

是指加工件表面具有较小间距和微波峰谷不平度。其两波峰或两波谷之间的距离（波距）很小（在1mm以下），用肉眼是难以看出的，因此它属于微观几何形状特性。

等离子抛光可以做到镜面吗？

等离子抛光是可以把产品抛光到镜面。首先要看工件的材质，成型工艺和初始表面状态。等离子抛光可以做到Ra0.015粗糙度。部分产品需要初抛即前处理（如压铸件的合模线）。根据要求确定前处理方案及等离子抛光工艺。

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